電子廠無(wú)塵車(chē)間為什么還要恒溫恒濕

　　隨著人們對(duì)生活品質(zhì)的提高，對(duì)其生產(chǎn)品質(zhì)的要求也越來(lái)越嚴(yán)格。電子廠與其他行業(yè)在無(wú)塵車(chē)間的建設(shè)規(guī)劃時(shí)在于主要對(duì)靜電的控制：高濕度實(shí)際上減小了無(wú)塵車(chē)間、潔凈室表面的靜電荷積累──這是大家希望的結(jié)果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。

　　當(dāng)相對(duì)濕度超過(guò)50%時(shí)，靜電荷開(kāi)始迅速消散，但是當(dāng)相對(duì)濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長(zhǎng)一段時(shí)間。

　　相對(duì)濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿意的折中，半導(dǎo)體無(wú)塵車(chē)間、潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過(guò)程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在無(wú)塵車(chē)間、潔凈室周?chē)諝庵械谋砻娑己芸斓乇桓采w上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。幸運(yùn)的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng);但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護(hù)能力的，因此，在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。

　　總結(jié)電子行業(yè)無(wú)塵車(chē)間溫濕度的控制主要在于其生產(chǎn)工藝的要求：下面我們舉例說(shuō)明：

　　舉例一)

　　在精密機(jī)械加工和計(jì)量等場(chǎng)合，為了防止因熱膨脹而引起的誤差，必須使工件保持一定的溫度。工件溫度的允許波動(dòng)幅度應(yīng)根據(jù)加工精度決定。例如，在恒溫室里對(duì)一根長(zhǎng)500mm的標(biāo)準(zhǔn)尺刻線，工藝允許線間公差為2um，其中l(wèi)um為尺溫變化所引起的形變誤差，另1um為加工與量測(cè)誤差。1um折合尺溫變化量＝0.20C[a為尺線膨脹系數(shù)，取10／um／(m?K)；l為尺長(zhǎng)，m]，故工件溫度變化需在以內(nèi)。

　　但由于工件測(cè)量?jī)x器等都有一定的熱惰性，空氣溫度的波動(dòng)傳人工件后，就要衰減。在設(shè)計(jì)恒溫系統(tǒng)時(shí)，一般總是以恒定環(huán)境空氣溫度為依據(jù)，故相應(yīng)的環(huán)境溫度精度可比工件允許的溫度精度低一些。因此，在確定恒溫室參數(shù)和選擇自動(dòng)控制時(shí)，必須考慮工件恒溫恒濕車(chē)間、圍護(hù)結(jié)構(gòu)、空氣處理設(shè)備和自控系統(tǒng)之間的動(dòng)態(tài)特性。

　　舉例二）

　　在電子行業(yè)制造車(chē)間是最重要產(chǎn)生靜電的地方，通常靜電會(huì)對(duì)產(chǎn)品造成短路甚至?xí)斐蓡T工導(dǎo)電暈倒事故，所以電子行業(yè)的無(wú)塵車(chē)間相對(duì)濕度不應(yīng)低于30%，這樣即可以減少靜電的產(chǎn)生，通常建議無(wú)塵車(chē)間的防靜電區(qū)域相對(duì)濕度不低于50%。過(guò)于干燥的空氣中易粉塵飛揚(yáng)，電子廠無(wú)塵車(chē)間無(wú)特殊要求的情況下，溫度控制在22℃左右，相對(duì)濕度控制在55～60%RH之間，在這種環(huán)境下，人們感覺(jué)舒適，靜電也消失了。

　　舉例三）

　　SMT車(chē)間對(duì)溫度和濕度有明確的要求

　　首先主要是為了錫膏能工作在一個(gè)較好的環(huán)境，溫度會(huì)影響錫膏的活性，對(duì)于里面所添加的助焊劑的相關(guān)溶劑的活性有一定的影響。溫度高會(huì)增加其的活性，最終影響絲印貼裝及回流的效果。容易出現(xiàn)虛焊，焊點(diǎn)不光澤等現(xiàn)象。濕度的大小回引起錫膏在空氣中吸入水氣的多少，如過(guò)吸如過(guò)多水氣，會(huì)使回流時(shí)產(chǎn)生氣空，飛漸，連焊等現(xiàn)象。故SMT恒溫恒濕車(chē)間溫濕度標(biāo)準(zhǔn):溫度:24±2℃濕度:50±10%。

　　舉例四）

　　在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間不宜超過(guò)25度。濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。

　　所以無(wú)塵車(chē)間的溫濕度控制由其生產(chǎn)工藝決定，但其精度同時(shí)也要看其房間的大小例如計(jì)量室、光柵刻線室、精密儀器制造和裝配車(chē)間等。前兩者都為小房間，空調(diào)精度(這里主要指溫濕度)要求高；后兩者為較大的生產(chǎn)車(chē)間，溫濕精度要求較低。所以其房間大小也會(huì)決定恒溫恒濕車(chē)間的精度。